常用的拋光粉來自混合稀土，輔以氟化物、石英、鈣、鋇、鐵和少量其他雜質。20世紀60年代至70年代，拋光粉的制備工藝和生產方法取得了相對集中的研究成果。常用的制備工藝是使稀土富集物在固態下發生化學變化，從而轉化為機械化學性能穩定的化合物。稀土氧化物含量為40~70%（含30~65%的氧化物），粒度為1~4微米。該拋光粉價格相對便宜，切割率高，應用很廣 。主要用于陰極射線管、平板玻璃和鏡片的拋光。第二類氧化物基拋光粉采用化學沉淀法生產。

      稀土沉淀煅燒成穩定的氧化物，磨成細粉。通常含有70~100%的稀土氧化物（含40~100%的氧化物）。該產品的優點是成分均勻，顆粒尺寸和形狀一致性好，但主要用于光學玻璃。特殊玻璃的拋光采用高水平拋光粉（99%以上的氧化物）。其顆粒形狀和硬度均勻，純度高，表面均勻，無缺陷，無雜質污染。常用于精密光學儀器、激光晶體和半導體元件的拋光。稀土拋光粉的要求不同于類似的稀土產品。就拋光粉而言，雖然對化學純度也有要求，但它不是決定性因素，而是決定性因素。

      因此，稀土拋光粉的制備必須在一定化學含量的基礎上賦予其應有的物理特性，如粒徑、均勻性、晶體性質、硬度、比例等。這些特性必須在制備過程中（包括沉淀和煅燒）進行調整。

      首先，產生拋光粉的母體化合物（即各種稀土鹽化合物）及其沉淀加工工藝。因為它們決定了產品的粒度特性和晶體特性，如氫氧化、碳酸和草酸，它們的煅燒產品在粒度和拋光性能上有很大的差異。

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